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第245章 摇人帮忙(为阿歷加更3)

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你吃大餐!晚上你还得回学校,不能太晚。”

  “成交!”张一凡笑道。

  随即,两人不再交谈,各自忙着手中的工作。

  沈靖不由得看了两人一眼,陈舟和张一凡都是认真的在看着文献,全然不像刚才还说说笑笑的模样。

  “这进入状态也太快了吧?”沈靖暗自嘀咕一声。

  他却不知道,张一凡的学习习惯,基本上都是在高中复读时,坐在陈舟身边,被那股压力给压出来的。

  不止是张一凡,陈舟周边的同学,或多或少的都受到了不少的影响。

  在陈舟改变的同时,他们也在默默的改变着。

  陈舟把主要的整理任务分别交给了张一凡和沈靖,这也让他有了时间,可以更多的去研究金刚石薄膜的整个制备工艺。

  只有完全了解,才能改进制备方法。

  而且,陈舟并不打算一开始就针对MPCVD法去研究。

  他打算先全面一点,再寻求突破。

  金刚石薄膜的制备方法有一个变迁。

  从上世纪50 年代的高温高压,到80年代初日国科学家首次使用的CVD法,再到今天的多种合成方法。

  说是多种合成方法,但其实也都是基于CVD法的基础上,进行改进的。

  【热丝CVD法(HFCVD)制备金刚石膜】

  这篇文献对于HFCVD法制备金刚石膜的介绍比较全面。

  虽然这种方法是CVD法的鼻祖,但是现在使用的仍然非常普遍,而且发展成沉积金刚石薄膜较为成熟的方法之一。

  这种方法需要在衬底上方设置金属热丝,常用的像钨丝、钽丝。

  再将含碳气体高温加热到2000~2200℃,进行分解,形成活性粒子。

  在氢原子作用下,就会在衬底上沉积而形成金刚石。

  这种方法,虽然简单,但是沉积效率很低,比四十三所现在用的方法要低很多。

  不仅如此,而且工艺稳定性差,容易造成污染。

  虽然文献中还提了两种改良的方法,但是陈舟同样不认同。

  因为效率是提高了,但是金刚石薄膜的质量,还是太低。

  对于金刚石半导体材料和器件的研究,显然不适用。

  但是,改良方法,陈舟觉得可以一试。

  一种是反应气体分送的HFCVD法,也就是把碳源气体和氢气由热丝的下方和上方分别送入。

  另一种是电子助进的HFCVD法

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